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紅外熱成像檢漏儀助力廠界VOCs泄露點(diǎn)位查找

點(diǎn)擊次數(shù):1786 發(fā)布時(shí)間:2022-10-19

        近年來(lái),隨著經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展、污染源的種類(lèi)日益增多,特別是工業(yè)集中區(qū)域、石油化工廠區(qū)及周邊環(huán)境。污染方式與生態(tài)破壞類(lèi)型日趨復(fù)雜,環(huán)境污染物負(fù)荷逐漸增加,污染事故也時(shí)有發(fā)生。隨著大氣污染防治及相關(guān)法律法規(guī)及標(biāo)準(zhǔn)的制訂,相關(guān)部門(mén)對(duì)生態(tài)環(huán)境監(jiān)管力度的加大。VOCs無(wú)組織排放成為了環(huán)保關(guān)注的重點(diǎn)問(wèn)題。特別是廠區(qū)內(nèi)罐區(qū)、固定源、管路接口、生產(chǎn)車(chē)間、灌充區(qū)、污水處理站、物料區(qū)、危廢區(qū)等安全管理的重點(diǎn)區(qū)域,更是排查VOCs泄漏點(diǎn)位的關(guān)鍵。

遠(yuǎn)距離、快速發(fā)現(xiàn)泄漏點(diǎn)位

樂(lè)氏科技GIR320 VOCs紅外熱成像檢漏儀采用光學(xué)氣體成像技術(shù)(OGI),能夠?qū)θ庋鄄豢梢?jiàn)的VOCs氣體進(jìn)行成像。具有非接觸、遠(yuǎn)距離、快速發(fā)現(xiàn)泄漏點(diǎn)位的特點(diǎn),快速大面積進(jìn)行區(qū)域掃描,大大提升查找速度、發(fā)現(xiàn)細(xì)微泄漏點(diǎn)、并進(jìn)行實(shí)時(shí)取證,助力執(zhí)法人員和企業(yè)安全管理人員科學(xué)管理,大幅提升工作效率、獲取真實(shí)有效數(shù)據(jù)、保障生產(chǎn)安全,節(jié)省維護(hù)成本。

儀器

GIR320(紅外成像氣體檢漏儀).png

 

GIR320 VOCs紅外熱成像檢漏儀

 

產(chǎn)品概述

GIR320 VOCs紅外熱成像檢漏儀適用于揮發(fā)性有機(jī)物氣體泄漏檢測(cè),能、快速、非接觸式定位泄漏點(diǎn)??稍诒3职踩嚯x時(shí)掃描揮發(fā)性氣體泄漏點(diǎn),快速修復(fù)以免造成危險(xiǎn)和損失。

適用于環(huán)保督察、LDAR檢測(cè)、VOCs無(wú)組織排放、不可達(dá)點(diǎn)位、油氣儲(chǔ)運(yùn)銷(xiāo)環(huán)節(jié)。

廣泛應(yīng)用在環(huán)境監(jiān)測(cè)、石油石化企業(yè)、生化企業(yè)、化工企業(yè)、油氣場(chǎng)站、油氣儲(chǔ)運(yùn)銷(xiāo)企業(yè)、海上油氣平臺(tái)等。

調(diào)色板及對(duì)應(yīng)的溫度區(qū)間.jpg

 

產(chǎn)品特點(diǎn)

1、高靈敏度、快速查找

采用高靈敏度制冷型中波紅外II類(lèi)晶格探測(cè)器,可非接觸、遠(yuǎn)距離、快速發(fā)現(xiàn)泄漏點(diǎn)位;

2、屏幕更大,視角更寬廣

配備高分辨率5寸旋轉(zhuǎn)屏和0.39寸目鏡,畫(huà)面更清晰;

3、自動(dòng)化程度高

自動(dòng)變倍、自動(dòng)調(diào)焦、自動(dòng)圖像調(diào)整,可單手操作;

4、拍攝模式豐富

具有紅外模式、可見(jiàn)光模式、融合模式、畫(huà)中畫(huà)模式和增強(qiáng)模式,豐富的觀察模式,有效提升觀察效果;

5、防爆認(rèn)證,安全可靠

本質(zhì)安全型防爆認(rèn)證,防護(hù)等級(jí)IP54。

 

應(yīng)用案例

第3頁(yè)-6.PNG   第3頁(yè)-5.PNG

某化工廠灌裝區(qū)連接罐車(chē)的人孔蓋處,使用增強(qiáng)模式和可見(jiàn)光模式拍攝對(duì)比效果圖


第7頁(yè)-20.PNG   第7頁(yè)-21.PNG

 某橡塑企業(yè)生產(chǎn)機(jī)器工作時(shí) VOCs 氣體無(wú)組織擴(kuò)散區(qū)域,使用GIR320增強(qiáng)模式和可見(jiàn)光模式拍攝效果圖

 

第6頁(yè)-17.PNG  第6頁(yè)-18.PNG  第6頁(yè)-19.PNG

 某能源企業(yè)使用GIR320增強(qiáng)模式、畫(huà)中畫(huà)模式和可見(jiàn)光模式,發(fā)現(xiàn)法蘭 VOCs氣體泄漏點(diǎn)位

 


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